Saber UCV
Repositorio Institucional
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https://saber.ucv.ve/handle/10872/20535
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| Title: | Resistencia eléctrica en películas de sistemas granulares magnéticos |
| Authors: | Clarizio, Víctor |
| Keywords: | técnica de pulverización catódica resistividad pulverizador catódico (Sputtering) |
| Issue Date: | 23-Jan-2020 |
| Abstract: | Resumen Mediante la técnica de pulverización catódica se elaboraron películas de aleaciones depositadas sobre substratos de vidrio. Las aleaciones binarias se elaboraron a partir de cátodos mixtos de los dos componentes, preparados a partir de placas metálicas de los elementos puros, exponiendo diferentes áreas relativas y usando Argón como gas de trabajo.Se prepararon seis muestras, con tres pares de aleaciones de Fe=Au de composición variable a partir de cátodos mixtos con relaciones de área: AFe=AAu = 10:42, AFe=AAu = 16:40 y AFe=AAu = 33:20. Simultáneamente, las películas también fueron depositadas sobre substratos de Si, para ser caracterizadas en cuanto a su morfología, espesor y composición, mediante Microscopía Electrónica de Barrido Analítica (MEB-EDX). Para ello se usó el Microscopio JEOL JSM-6390 con un analizador INCA X-Sight del Centro de Ingeniería de Super cies de la Universidad Simón Bolívar. Una vez elaboradas las muestras, se les somete a tratamiento térmico a tres de ellas con diferentes composiciones, a una temperatura de 300oC durante 15 minutos, esto con la intención de promover la difusión de los átomos y producir nanocristales de hierro embebidos en la matriz de oro. Posterior al tratamiento térmico dado a estas tres películas, todas fueron caracterizadas en cuanto a su resistividad con la Fuente-Multímetro Modelo 2400 - Keithley, haciendo uso de un dispositivo diseñado para contener las películas y medir su resistencia laminar por el "método de las cuatro puntas", suministrando corriente DC al sistema y midiendo la caída de potencial producida simultáneamente. Para estudiar las variaciones magneto-resistivas de las películas, se utilizó un electroimán con una corriente de 1:5A que genera un campo magnético uniforme y constante de 6:5kG, de tal manera que sea de fácil manipulación y que las corrientes puedan ser aplicadas perpendicularmente al mencionado campo. A las muestras ya sometidas a tratamiento térmico, se les dio otro, de 120 minutos a 300oC, siendo también caracterizadas en cuanto a su resistividad. Los resultados de dicha caracterización muestran que las películas poseen una estructura columnar, con espesores entre los 250nm y 350nm y composiciones atómicas Au88%Fe12%, Au83%Fe17% y Au74%Fe26% respectivamente. Los resultados de la caracterización resistiva indicaron un incremento en la resistencia eléctrica conforme la cantidad de hierro aumentaba, y una disminución de la misma cuando aumentaba el tiempo en el que la muestra se sometió al tratamiento térmico. Palabras claves:técnica de pulverización, resistividad, pulverizador catódico(Sputtering) |
| Description: | Clarizio,Víctor(2019) Resistencia eléctrica en películas de sistemas granulares magnéticos.Trabajo de Grado presentado ante la Universidad Central de Venezuela para optar por el Título de Licenciado en Física |
| URI: | http://hdl.handle.net/10872/20535 |
| Appears in Collections: | Pregrado |
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