Complejos ternarios de níquel (II) con ácido dipicolínico y los ácidos oxálico, malónico, ftálico y salicílico estudiados en NACL 1,0 m a 25°C.

Abstract

En este trabajo se estudio de la formación de los complejos ternarios entre el níquel divalente y el ácido dipicolínico, con los ligandos secundarios ácidos oxálico, malónico, ftálico y salicílico en NaCl 1,0 M a 25 °C. En el presente trabajo se estudiaron los sistemas:  H+-ácido dipicolínico  H+-ácido oxálico  H+-ácido malónico  H+-ácido ftálico  H+-ácido salicílico  H+-Ni(II)-ácido dipicolínico- ácido oxálico  H+-Ni(II)-ácido dipicolínico- ácido malónico  H+-Ni(II)-ácido dipicolínico- ácido ftálico  H+-Ni(II)-ácido dipicolínico- ácido salicílico por medio de medidas de sus fuerzas electromotrices emf(H) a 25ºC, empleando NaCl 1,0 M como medio iónico inerte. Los datos experimentales de cada sistema fueron analizados empleando el programa de mínimos cuadrados LETAGROP, obteniéndose así, los valores de las constantes de acidez de los diferentes ligandos y calculados los correspondientes valores de pKa . De igual manera se obtuvieron las constantes de estabilidad βpqrs de los complejos (p, q, r, s), de los sistemas ternarios H+-Ni(II)–ácido dipicolínico-ligando (ácido oxálico, ácido malónico, ácido ftálico y ácido salicílico)